-
JBX-3200MV电子束光刻系统
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
-
JBX-6300FS 电子束光刻系统
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形
-
JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
-
JBX-9500FS电子束光刻系统
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印
-
JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统
JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统zei新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统,通过全方位的设计优化,实现更简便的操作,更快的刻写速度,更小的占地面积和安装空间,并且更加绿色节能。产品
-
Gatan SmartEMIC 电子束感应电流测量系统
-
BS-EBM系列多用途电子束熔炼炉
BS-EBM系列多用途电子束熔炼炉以电子束为热源使用各种熔解用坩埚,对高融点活性金属进行熔解/精炼、制备铸锭的电子束熔炼炉。 适合研究开发及少量生产、省空间设计的小型熔炼炉。 可按照用途选择坩埚种类
-
BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪
BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点:用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接
-
国产聚焦离子束电子束双束显微镜 DB500
-
BS/JST系列电子枪/电子束蒸镀的高压电源
BS/JST系列电子枪/电源和偏转型电子枪结合使用,用作电子束蒸镀的高压电源。产品特点:和偏转型电子枪结合使用,用作电子束蒸镀的高压电源。BS-720xxICE系列电源多功能、高性能、采用按钮操作
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net