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离子探针分析仪,即离子探针(Ion Probe Analyzer,IPA),又称二次离子质谱(Secondary Ion Mass Spectrum,SIMS),是利用电子光学方法把惰性气体等初级离子加速并聚焦成细小的高能离子束轰击
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利用不同种类的一次离子源产生的高能离子束轰击固体样品表面,使样品被轰击部位的分子和原子脱离表面并部分离子化—一产生二次离子,然后将这些二次离子引出、加速进入到不同类型的质谱仪中进行分析。这种利用高能一次离子轰击使被分析样品电离的方式统称
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信号,经处理显示样品的表面形貌。目前聚焦离子束系统成像分辨率已达到5nm,比扫描电镜稍低,但成像具有更真实反映材料表层详细形貌的优点。 3.2 离子束蚀刻高能聚焦离子束轰击样品时,其动能会传递给样品中的原子分子,产生溅射效应,从而达到不断
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。离子注入诱变是利用离子注入设备产生高能离子束(40~60keV)并注入生物体引起遗传物质的永久改变,然后从变异菌株中选育优良菌株的方法。离子束对生物体有能量沉积(即注入的离子与生物体大分子发生一系列碰撞并逐步失去能量,而生物大分子逐步获得能量
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比较简单,离子束斑直径比较大,一般为几毫米到几十厘米,束流密度较低,加工时必须采用掩模处理。在聚焦离子束加工系统中,来自离子源的离子束经过加速、质量分析、整形等处理后,聚焦在样品表面,离子束斑直径目前已可达到几个纳米,其加工方式为将高能离子束
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分析。它是利用电子光学方法将某些惰性气体或氧的离子加速并聚焦成细小的高能离子束来轰击试样表面,使之激发和溅射出二次离子,用质谱仪对具有不同质荷比(质量/电荷)的离子进行分离,以检测在几个原子深度、数微米范围内的微区的全部元素,并可确定同位素。它的
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二次离子质谱( Secondary Ion Mass Spectrometry ,SIMS)是通过高能量的一次离子束轰击样品表面,使样品表面的原子或原子团吸收能量而从表面发生溅射产生二次粒子,这些带电粒子经过质量分析器后就可以得到关于
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过程中会使离子大量丢失。获得良好聚焦特性的离子束的最终障碍是束中离子之间的静电排斥力,为了克服这一障碍,应尽早使离子获得较高能量。 ⑤离子源的效率 以离子束形式引出的工作物质占总消耗的工作物质的比例。 ⑥工作寿命 离子源一次安装以后使用的时间。
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, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等领域.作为蚀刻机的核心部件, KRI 射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单
2022-06-22
来源: 伯东贸易(深圳)有限公司
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二次离子质谱是一种非常灵敏的表面成份精密分析仪器,它是通过高能量的一次离子束轰击样品表面,使样品表面的分析吸收能量而从表面发生溅射产生二次粒子,通过质量分析器收集、分析这些二次离子,就可以得到关于样品表面信息的图谱。它利用