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PNC 涂胶显影
主要应用于集成电路芯片制造光刻工艺中涂胶显影工序的主力设备.
至纯科技 400-6699-117 转 1000免费咨询 -
KS-S150 星型全自动涂胶显影机
用于LED-PSS工艺的涂胶显影制程及化合物半导体的涂胶显影等制程。可兼容蓝宝石、砷化镓和碳化硅等材质的晶圆，产品涉及多个应用领域，涂胶机产能大于190片/小时。设备通过了CSA认证。
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涂胶设备
涂胶设备应用于晶圆级封装盛美上海的涂胶设备是晶圆级封装（WLP）光刻工艺中的关键步骤。
盛美半导体设备（上海）股份有限公司 400-6699-117 转 1000免费咨询 -
KS-C300 12寸 集束型涂胶显影机
应用于逻辑类、存储类芯片、摄像头芯片、功率器件芯片、OLED制造等领域
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KS-S300 12寸 星型涂胶显影机
可用于高端封装、MEMS、OLED等领域的涂胶显影制程，每小时可加工100片晶片，同时产品可兼容不同材质的晶片如硅、玻璃片、键合片、化合物等
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科哲 GoodImage-3000型薄层色谱生物自显影系统
—专为高通量筛选而打造— TLC生物自显影是一种将薄层色谱分离和生物活性测定相结合的药物筛选方法,具有操作简单、耗费低、灵敏度和专属性高等优点,是一种快速测定生物活性的方法。可用于对具有抗菌/真菌,抑制胆碱酯酶以及清除自由基和抗氧化等活性的天然产物的筛选,可实现活性成分的提取分离。利用TLC生物自显
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显影设备
显影设备应用于晶圆级封装盛美上海的显影设备是晶圆级封装（WLP）光刻工艺中的步骤显影设备应用领域• 曝光后烘烤 (PEB) • 显影 • 坚膜主要优势三种显影方式集于一体灵活的喷嘴扫描系统技术先进，使用便捷精确的药液控制特性和规格兼容
盛美半导体设备（上海）股份有限公司 400-6699-117 转 1000免费咨询 -
KS-FT200/300 前道8/12寸涂胶显影机
KS-FT200/300 前道8/12寸涂胶显影机，该系列机台通过各种行业认证，占地面积小、可靠性高、易于维护，满足各种功能芯片制程需求。
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测显影液中四甲基氢氧化铵MT-V6电位滴定仪
MT-V6多功能全自动滴定仪是HOGON集多年滴定技术积累研发而成的精品成果，该产品采用软硬件模块化设计，可以根据不同行业客户的实验需求自由组合，灵活配置，实现多通道滴定、多溶剂自动配液、指示剂自动添加、自动溶解处理待测样品、以及全自动清洗和排空等功能。MT-V6还能和HOGONAS系列自动进样器无
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全自动HMDS涂胶烤箱 真空镀膜机
光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败
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