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激光脉冲沉积系统(PLD)
deposition in oxygen atmosphere -铁磁 / 电介体 / 磁阻抗材料沉积技术参数: 腔形状 : 球面型 样品尺寸 : ~ 2inch, 单片 wafer 加热
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脉冲激光沉积系统(PLD)
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脉冲激光沉积系统(PLD)
仪器简介: PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态,然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法
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PLD脉冲激光沉积系统-SVT
美国SVT公司PLD脉冲激光沉积系统用于沉积金属薄膜,氧化物薄膜,多元素材料薄膜的脉冲激光沉积系统,可以与多种薄膜制备设备连用。凭借多年的科研与实践经验,我公司为许多科研用户独立打造了
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脉冲激光沉积(PLD)/大面积PLD/涂层带PLD系统
仪器简介:脉冲激光沉积(PLD)简介 美国PVD公司为客户提供优质的薄膜沉积设备,特别是大面积脉冲激光沉积(PLD)系统,还包括沉积元件如靶材操纵器和智能视窗等,另外可为客户订制激光分子
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脉冲激光沉积系统Pioneer 120 PLD System
独立的交钥匙PLD系统。 外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。 纳米级薄膜的沉积。 外延氧化膜沉积的可编程氧兼容加热器。 自动多目标旋转多层沉积。 全干式真空泵组。 通过系统软件进行闭环压力控制。
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脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD
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脉冲激光沉积系统Pioneer 180 PLD System
Pioneer 180 PLD系统是一款用于在各种衬底上制备多种材料的高质量外延薄膜、多层异质结构和超晶格的交钥匙PLD系统。
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脉冲激光沉积系统180 Laser MBE/PLD
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组合型脉冲激光沉积系统 Combinatorial PLD System
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