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CrossLab 多厂商仪器服务
安捷伦能为多个厂商的仪器提供维修、维护、 法规认证、搬家、维修部件及耗材,服务整个实验室。
安捷伦科技(中国)有限公司 400-6699-117 转 4029免费咨询 -
CrossLab 多厂商法规认证服务
通过安捷伦 Crosslab 多厂商仪器服务,无论您使用哪个品牌的仪器,都可以使实验室中所有色谱与光谱系统得到统一优质的维修,保养,法规认证和搬迁服务。
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精选离子束刻蚀/沉积系统
电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、沉积等。
上海纳腾仪器有限公司 400-6699-117 转 4620免费咨询 -
精选上海纳腾高精度电子束曝光系统
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)
上海纳腾仪器有限公司 400-6699-117 转 4620免费咨询 -
喆图THS-2022M高低温湿热试验箱厂商
喆图THS-2022M高低温湿热试验箱厂商 THS系列环境试验箱/环境交变试验箱——环境测试箱用途概述环境试验箱(高低温湿热试验箱、高低温气候箱)/环境交变试验箱(高低温交变湿热试验箱
上海喆图科学仪器有限公司 400-6699-117 转 6271免费咨询 -
SEM刻蚀子系统
SEM刻蚀子系统:XENOS刻写子系统是一种允许设计图案数据并产生用于带电粒子束(例如用于半导体光刻应用或聚焦离子束系统的电子束)的束转向的相应偏转信号的系统。它连接到传统的扫描电子显微镜、FIB或双光束工具上,升级系统,用该系统在半导体或其他材料上进行纳米光刻。SEM刻蚀子系统
上海昊量光电设备有限公司 400-6699-117 转 4994免费咨询 -
JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。
日本电子株式会社(JEOL) 400-6699-117 转 6205免费咨询 -
JBX-3200MV电子束光刻系统
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。
日本电子株式会社(JEOL) 400-6699-117 转 6205免费咨询 -
Gatan SmartEMIC 电子束感应电流测量系统
EBIC分析系统,可以实时软件控制全自动采集电子束感生电流(EBIC)信号,获得EBIC图像信息,还可以获得IV曲线信息,zei终可以测试PN结位置,宽度,少子扩散长度,材料或器件的失效点定位,广泛应用于电子半导体领域。
北京欧波同光学技术有限公司 400-6699-117 转 6166免费咨询 -
Obducat电子束刻蚀系统
仪器简介:1998年Obducat公司并购了在SEM有三十年经验的Camscan,并结合自身在纳米压印设备以及光存储设备的开发经验,研发了电子束刻蚀设备,提供EBR-30kV,EBR-50kV
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