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多功能电子束曝光机
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CrossLab 多厂商仪器服务
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CrossLab 多厂商法规认证服务
通过安捷伦 Crosslab 多厂商仪器服务,无论您使用哪个品牌的仪器,都可以使实验室中所有色谱与光谱系统得到统一优质的维修,保养,法规认证和搬迁服务。
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上海纳腾高精度电子束曝光系统
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)
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电子束曝光系统
(mean+2σ)。技术参数: 电子束光刻系统/电子束直写系统/电子束曝光系统 1.zei小线宽:小于10nm(8nm available) 2.加速电压:1-50kV 3.电子束直径:小于
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NPGS纳米图像电子束曝光系统
直接描画或投影复印图形的技术。它的特点是分辨率高、图形产生和修改容易、制作周期短。 由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近,美国JC Nabity
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玻璃基板曝光设备-曝光机玻璃
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日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统 步进重复式曝光的优点
可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。产品特点:利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠
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紫外曝光机
这款紫外曝光机非常适合对紫外光敏感层的处理,是理想的紫外掩曝光机系统。应用:紫外曝光机适合光学,生物,微纳科技,光刻等领域需要1-2掩膜的应用。紫外掩曝光机特点1)完美的单色曝光,曝光带宽小于
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基于改装SEM的扫描电子束曝光系统
lithography, EBL)是一种利用电子束在工件面上扫描直接产生图形的装置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近,美国JC Nabity Lithography
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