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BS-80020CPPS等离子体源
BS-80020CPPS等离子体源BS-80020CPPS是用于辅助低温(100℃以下等)下塑料基板和胶片成膜的等离子体源。The plasma source in this product
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日本电子BS-80020CPPS等离子体源
功能简介:BS-80020CPPS等离子体源BS-80020CPPS是用于辅助低温(100℃以下等)下塑料基板和胶片成膜的等离子体源。本系列产品是专门为等离子源与低温过程,如塑料膜或基板。 真空薄膜
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BS-80011BPG产生高密度内置型等离子源
BS-80011BPG产生高密度等离子体的内置型等离子体枪安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术(离子镀),能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性
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日本电子BS-80020CPPS等离子体源 表面清洗
气体(Ar)8 ~ 20mL/分适用控制电源BS-92040CPPC功能简介:BS-80020CPPS等离子体源BS-80020CPPS是用于辅助低温(100℃以下等)下塑料基板和胶片成膜的等离子体
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日本电子BS-80020CPPS等离子体源 表面改性
Features特性BS-80020CPPS低温工艺等离子源该等离子体源专门用于低温工艺,例如塑料基板/薄膜。真空沉积膜的薄膜质量可以通过等离子辅助沉积来降低基板的温度升高来改善。并且也可用
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日本电子BS-80020CPPS等离子体源 活化反应蒸发(ARE)技术
)8 ~ 20mL/分适用控制电源BS-92040CPPC功能简介:BS-80020CPPS等离子体源BS-80020CPPS是用于辅助低温(100℃以下等)下塑料基板和胶片成膜的等离子体源。本系
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日本电子BS-80020CPPS等离子体源 可以改装到现有的真空室
气体(Ar)8 ~ 20mL/分适用控制电源BS-92040CPPC功能简介:BS-80020CPPS等离子体源BS-80020CPPS是用于辅助低温(100℃以下等)下塑料基板和胶片成膜的等离子体
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DESI XS离子源
DESI成像技术通过将喷雾溶剂连接于毛细管上,施加一定的高电压,在氮气的辅助下形成带电喷雾液滴,轰击样品表面,带电溶剂和待分析物同时发生电析和解离,去溶剂化后,沿着传输毛细管进入质谱进行分析。
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离子源
对于质谱来说,质量分辨率、质量精度,尤其是灵敏度方面的性能与离子化方式紧密相关。没有任何离子源能满足所有应用的需求。无论是极性和非极性的化合物的分析,还是小分子和大分子化合物的分析都需要不同的离子化
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SMCI创新的GCMS软电离源
SMCI源是一种创新的GCMS软电离源,在PCI分析模式中,可使用有机溶剂来替代的可燃性反应气体,可准确取得准分子离子峰。
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