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电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统
电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 、 电子束曝光系统 CABL-9000C series
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牛津仪器Etch刻蚀工艺
化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP—感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs—刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb—刻蚀锑化镓刻蚀GaN—刻蚀氮化镓刻蚀
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电子束曝光系统
CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供尖端 的电子束纳米光刻(EBL)系统,或称电子束直写(EBD)、电子束爆光系统。 型号包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF
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BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪
BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点:用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接
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BS-EBM系列多用途电子束熔炼炉
BS-EBM系列多用途电子束熔炼炉以电子束为热源使用各种熔解用坩埚,对高融点活性金属进行熔解/精炼、制备铸锭的电子束熔炼炉。 适合研究开发及少量生产、省空间设计的小型熔炼炉。 可按照用途选择坩埚种类
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URG9000系列离子色谱大气及大气颗粒物中阴阳离子在线监测系统
离子成分分析和监测zei强有力的工具。技术参数:采样装置:URG9000系列性能参数 采样器:URG9000系列 电源要求:220 VAC / 50 Hz 采样仪尺寸:19 '' x
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Obducat电子束刻蚀系统
仪器简介:1998年Obducat公司并购了在SEM有三十年经验的Camscan,并结合自身在纳米压印设备以及光存储设备的开发经验,研发了电子束刻蚀设备,提供EBR-30kV
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默克 Supelco® Prove系列实验室多参数水质分析仪
Spectroquant® Prove系列的仪器和测试试剂盒具有多个重要功能,因此提高了水质分析的效率和可靠性,这些功能包括:· 实时自动识别(Live ID)功能,这是一种新型
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莱伯泰科中型SMART循环水冷却器
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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2023仪器产业营收超1万亿,这些仪器公司增长显著
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