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DENTON离子束溅射系统-丹顿IBS,IBD
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离子束溅射镀膜机IBS系统-Denton离子束溅射镀膜
产品描述离子束系统可以实现:稳定的膜层沉积速率;化学成分稳定多种可选项,以适应不同应用要求:多种离子源可选;多种 工装夹具可选;多种镀膜控制方式可选;剩余气体分析;自动化控制方式可选离子束溅射的优点
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金/碳镀膜机
了数千台多种规格的蒸发设备、溅射和PECVD镀膜系统,用于大工业生产、科研开发和小规模制造。丹顿用于科研开发和小规模制造的中小型镀膜设备据美国市场占有率之首。 Desk V HP 专用
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离子束溅射沉积系统
仪器简介: 应用: 自旋阀 /AMR/ GMR 磁隧道结 介电界面涂层 Rugate Filters High-k 材料 形状记忆合金 光电材料 超导材料 单一
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JIB-4000 聚焦离子束加工观察系统
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JIB-4000PLUS 聚焦离子束加工观察系统
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IBS镀膜激光反射镜
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低损耗 IBS 镀膜激光偏振器
低损耗 IBS 镀膜激光偏振器Ø1064nm Nd:YAG 设计波长Ø在 45° AOI 具有 10,000:1 的高消光比Ø低损耗离子束溅射 (IBS) 镀膜Ø采用 10-5 表面质量的 UV
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离子束刻蚀/沉积系统
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日本电子IB-19530CP截面样品制备装置 离子束溅射镀膜
、离子束溅射镀膜等。◇ 设置简单 功能性样品座采用模块化设计,在光学显微镜(另售)下也能调整加工位置。◇ 多用途样品台 通过选择各种功能性样品座,不仅能截面刻蚀,还可以进行平面刻蚀、离子束溅射
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