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ETD-650MS磁控溅射仪
ETD-650M型磁控溅射仪是我公司研制开发的一款经济实用的袖珍型高真空磁控溅射设备,更适合各科研及教育机构实验室的中试验需求。系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶(强/弱磁靶)、光纤旋转台(定制
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ETD-650MS磁控溅射仪
ETD-650M型磁控溅射仪是我公司研制开发的一款经济实用的袖珍型高真空磁控溅射设备,更适合各科研及教育机构实验室的中试验需求。系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶(强/弱磁靶)、光纤旋转台(定制
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ETD-900M磁控溅射仪
ETD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,磁控溅射法更是
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ETD-2000MH微型高真空磁控溅射仪
ETD-2000MH型磁控等离子溅射仪。 磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场
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ETD-2000MH微型高真空磁控溅射仪
ETD-2000MH型磁控等离子溅射仪。 磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在
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赛默飞Orbitrap Fusion Lumos 三合一高分辨质谱系统
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