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小型离子溅射仪ETD-900
ETD-900 型离子溅射仪外观亮丽,做工精致,旋钮式定时器档位清晰,手感舒适;特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气,具有欧洲典雅风范;前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体;调节溅射
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ETD-900M磁控溅射仪
ETD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,磁控溅射法更是
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ETD-2000Ⅲ 离子溅射仪
仪器简介:ETD-2000 Ⅲ 型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,zei简单、可靠、经济的镀膜设备。他的特别之处是在一个真空室内设计安装了三个靶。旋转样品台,可以依次
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离子溅射仪ETD-2000
ETD-2000 型离子溅射仪外观沉稳大气,采用真空自动控制和真空保护电路,使操作和应用更加安全可靠。为扩大应用领域,可同时手动调整溅射仪的电离电流或手动调整其真空微调针阀,改变电离室的
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ETD-2000Ⅲ 离子溅射仪
ETD-2000III型三靶离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备。本机特别之处是在一个真空室内安装了三个靶,旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料
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ETD-3000离子溅射仪
ETD-3000型离子溅射仪外观亮丽做工精致,旋钮式定时器档位清晰,手感舒适;特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气,具有欧洲典雅风范;前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体;调节溅射电流大小
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ETD-2000Ⅲ 离子溅射仪
ETD-2000III型三靶离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备。本机特别之处是在一个真空室内安装了三个靶,旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此
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SBC-12小型离子溅射仪
本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜,仪器操作简单方便,是样品制备所必备的仪器。适用的靶材:金、铂、铬、银、钛、铜、镍、金钯合金等
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GVC-1000小型离子溅射仪
主要适用于扫描电镜镀覆导电膜,仪器操作简单方便,是样品制备所必备的仪器。适用的靶材:金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等
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梅特勒托利多 多参数测试仪 S900 -K
多参数测试仪 S900 -K实验室性能.SevenExcellence S900-套件,带有InLab OptiOx的溶氧台式仪表套件专业、准确SevenExcellence S900 台式仪为客户
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