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GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪
GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪配备了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。不但可以用等离子溅射的方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或其他金属单质的薄膜。
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GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪
GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。主要特点1、设有
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GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸镀仪
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VTC-1RF-SPC磁控溅射蒸发镀膜仪
磁控溅射蒸发镀膜仪VTC-1RF-SPC是一套可实现射频磁控溅射和蒸发镀膜功能的系统,包含射频电源、温控型蒸发镀膜模块、真空系统,水冷设备,磁控溅射靶头,不锈钢腔室等。产品名称VTC-1RF-SPC
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GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪
GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪,可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜,样品直径可达50mm,镀膜厚度可达300Å,特别适用于SEM样品表面的镀膜。
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GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪
GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪专门为在基底上镀金属膜(如金、铂、铟、银等)而设计,最大放置样品尺寸直径为40mm,膜厚可达300?,特别适用于为SEM样品镀金而作为导电极。主要特点
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GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪
产品简介:GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪可设定程序,并精确控制温度200oC-1500oC(或者1200oC-1700oC),最大可蒸镀直径2"的薄膜样品,样品台可旋转,以获得
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GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪
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德国徕卡 镀膜仪 EM ACE200
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MiniQS高性能离子溅射镀膜仪
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