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GSL-450-PLD激光镀膜设备
实验室制备材料粉末的理想设备。 产品型号GSL-450-PLD(Pulsed Laser Deposition)安装条件本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下
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GSL-300-PLD激光镀膜设备
实验室制备材料粉末的理想设备。 产品型号GSL-300-PLD(Pulsed Laser Deposition)安装条件本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下
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ISOLUTE® PLD+
瑞典Biotage公司zei新开发的 ISOLUTE® PLD+ 内有除磷脂填料,可以快速去除基质复杂样品中99%的蛋白和磷脂对于生化样品制备来说,使用ISOLUTE® PLD+较传统蛋白沉淀技术
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GSL-CKJS-450-B1磁控溅射
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GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪
GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪,特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜(如Ti、Al 、Au等)和小分子的有机物。
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GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪
GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及进行微小产品真空镀膜工艺研究、样板试制、操作培训和生产的单位。
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GSL-450-PLD激光镀膜设备
,且具有体积小便于操作及清理方便的优点,是一款实验室制备材料粉末的理想设备。 产品型号GSL-450-PLD(Pulsed Laser Deposition)安装条件本设备要求在海拔1000m以下
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GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪
GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪配备了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。不但可以用等离子溅射的方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或其他金属单质的薄膜。
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GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪
GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。主要特点1、设有
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脉冲激光沉积(PLD)/大面积PLD/涂层带PLD系统
仪器简介:脉冲激光沉积(PLD)简介 美国PVD公司为客户提供优质的薄膜沉积设备,特别是大面积脉冲激光沉积(PLD)系统,还包括沉积元件如靶材操纵器和智能视窗等,另外可为客户订制激光分子
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