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SBC-12小型离子溅射仪
本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜,仪器操作简单方便,是样品制备所必备的仪器。适用的靶材:金、铂、铬、银、钛、铜、镍、金钯合金等
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GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪
GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪专门为在基底上镀金属膜(如金、铂、铟、银等)而设计,最大放置样品尺寸直径为40mm,膜厚可达300?,特别适用于为SEM样品镀金而作为导电极。主要特点
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GVC-1000小型离子溅射仪
主要适用于扫描电镜镀覆导电膜,仪器操作简单方便,是样品制备所必备的仪器。适用的靶材:金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等
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GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪
GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪,可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜,样品直径可达50mm,镀膜厚度可达300Å,特别适用于SEM样品表面的镀膜。
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BRIGHT KAS-2000F 离子溅射仪
KAS-2000F离子溅射是布莱特公司针对SEM/TEM开发出的zei新产品,它可以对不导电样品进行喷镀,使导电性不理想的样品也能够在SEM/TEM中进行观测。
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GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪
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全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000
液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动放气、溅射电流范围大、溅射效率高、颗粒度小、样品表面无温升,适用温度敏感性样品等特点,可适用金、铂、银、钛、铬、铝、铜、铅等常用靶材。
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VTC-1RF-SPC磁控溅射蒸发镀膜仪
磁控溅射蒸发镀膜仪产品型号VTC-1RF-SPC主要参数· 电源:AC380V/50HZ · 额定功率:4.2KW·外形尺寸:长840*宽750*高1900mm·重量:约310KG不锈钢腔室· 内径
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GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪
GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪配备了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。不但可以用等离子溅射的方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或其他金属单质的薄膜。
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GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪
GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。主要特点1、设有
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