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NLD-4000(ICPM)PEALD原子层沉积系统
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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NLD-4000(M)原子层沉积系统
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原子层沉积系统(ALD&PEALD)
仪器简介: 原子层淀积(ALD)技术正逐渐成为了微电子器件制造领域的必须.多年来,原子层淀积技术的应用范围涉及从液晶显示面板(LCD panel)到工业涂 层等多种领域
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NLD-4000 (A) ALD全自动原子层沉积系统
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PANDORA 多功能台式原子层沉积系统
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THEIA超快平面原子层沉积系统
THEIA 是一款高性能,稳定,灵活,可靠且安全的研发型原子层沉积系统,兼具工业生产解决方案的优势。THEIA 可进行升级改造,从而满足科学研究的各种需求,并实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。
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PROMETHEUS 流化床原子层沉积系统
P 系列是 Forge Nano 专为粉末 ALD 开发的研发级工具,可轻松实现 kg 的粉末包覆。使用流化床技术可保证粉末在反应器中的分散,有利于前驱体扩散。
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三维原子层沉积系统 ALD
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SUPERALD 原子层沉积 等离子增强系统 PEALD
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