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刻蚀设备:NLD-570
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牛津仪器Etch刻蚀工艺
化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP—感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs—刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb—刻蚀锑化镓刻蚀GaN—刻蚀氮化镓刻蚀
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梅特勒托利多IND570 和 IND570xx 称重终端
IND570 和 IND570xx 称重终端提供高性能和多功能性提供高性能和多功能性IND570 是一种先进的工业称重终端,广泛适用于多种手动和自动称重应用。 该终端的连接性非常灵活,其控制选项具有
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Obducat电子束刻蚀系统
仪器简介:1998年Obducat公司并购了在SEM有三十年经验的Camscan,并结合自身在纳米压印设备以及光存储设备的开发经验,研发了电子束刻蚀设备,提供EBR-30kV
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
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保温柜BWG595*865*570投标参数介绍
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保温库595*570*865(长*宽*高)投标参数介绍
保温库595*570*865(长*宽*高)投标参数介绍,手术室净化,手术室,手术室保温柜,手术室保冷柜,手术室分类,洁净手术室
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医疗用保冷柜(净化)595*865*570投标参数介绍
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牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 高刻蚀速率腔刻蚀
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