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NPGS纳米图像电子束曝光系统
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基于改装SEM的扫描电子束曝光系统
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电子束光刻图形发生器
定位的工件台等全套的电子束直写系统。详情请垂询我公司。 可为客户提供掩膜版和微纳米图形制作和咨询服务,也可联合申请科研项目。请有需求的客户与我公司联系。 技术参数:NanoPattern图形发生器主要
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Obducat电子束刻蚀系统
仪器简介:1998年Obducat公司并购了在SEM有三十年经验的Camscan,并结合自身在纳米压印设备以及光存储设备的开发经验,研发了电子束刻蚀设备,提供EBR-30kV
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基于改装SEM的扫描电子束曝光系统
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Thermo Scientific 五参数水质分析系统
五参数水质分析系统是ThermoScientificTM 采用 AquaPro 多通道控制器为操作平台,通过定制化内置模块,同时连接4个AquaSensors传感器。测量参数包括:pH、电导率、浊度
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Gatan 精密刻蚀镀膜系统PECS II 685
ALT 327,为 ALTO 冷冻扫描电镜系统而设计的撞击式冷冻制样设备,提供了样品载体和样品载台,它们可以放置在 ALTO 2500 冷冻工作站或ALTO 1000 的液氮泥加工站中*。
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牛津仪器OmniGIS II气体注入系统
中,气体注入系统(GIS)直接在样品上引入了可控制的流动气体方案。气体与显微镜的电子束或离子束相互作用,可以在材料表面进行刻蚀或沉积。应用范围包括样品制备和纳米焊接,以及采用直写式光刻技术建立纳米结构
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牛津仪器Etch刻蚀工艺
化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP—感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs—刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb—刻蚀锑化镓刻蚀GaN—刻蚀氮化镓刻蚀
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CSPM图形化纳米加工系统
主要特点:CSPM图形化纳米加工系统 *可以在纳米级尺度上加工任意需要的复杂结构 *超大样品空间设计,可容纳直径 45mm、厚度25mm试样
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