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OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜(CSS)炉)
OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜(CSS)炉是一款快速蒸发管式炉,专门用于PVD或CSS法制作薄膜;其炉管外径为11″,炉管内载样盘可放置3″ 的圆形或2″×2″的方形基片;加热元件为
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OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜(CSS)炉
产品简介:OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜(CSS)炉是一款快速蒸发管式炉,专门用于PVD或CSS法制作薄膜;其炉管外径为11″,炉管内载样盘可放置3″的圆形或2″×2″的方形基片
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近距离蒸发镀膜 ( CSS)炉
OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸发管式炉,专门针对于用PVD或CSS法来制作薄膜。此款管式炉炉管直径为11" OD,炉管内载样盘可放置3" 的圆形或2"x2"的方形基片。加热元件为两组
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小型1000℃RTP炉OTF-1200X-4-RTP
小型1000℃RTP炉OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速热处理管式炉,配有4"石英管和真空法兰,是专为半导体或太阳能电池基片(最大3")的退火而设计。本机采用10KW红外灯管加热,最快
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可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL
可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL是一种快速热处理炉,采用红外灯加热和移动炉体快速冷却,可获得最高升温速率为100°C/s 、降温速率为5°C/s。可滑动RTP炉
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可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL
可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL是一种快速热处理炉,采用红外灯加热和移动炉体快速冷却,可获得最高升温速率为100°C/s 、降温速率为5°C/s。可滑动RTP炉
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可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL
可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL是一种快速热处理炉,采用红外灯加热和移动炉体快速冷却,可获得最高升温速率为100°C/s 、降温速率为5°C/s。可滑动RTP炉
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4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV
4"高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV 是一款精巧型快速热处理管式炉,配有4"石英管及高真空系统(机械泵+分子泵), 是专为半导体或太阳能电池基片(最大3")的退火而设计。本机采用
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1000℃小型RTP炉--OTF-1200X-4-RTP
OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速热处理管式炉,配有4" 石英管和真空法兰, 它是专为半导体或太阳能电池基片(最大达3“)的退火而设计,采用10KW红外灯管加热最快升温速度为 50
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Gatan 精密刻蚀镀膜系统PECS II 685
ALT 327,为 ALTO 冷冻扫描电镜系统而设计的撞击式冷冻制样设备,提供了样品载体和样品载台,它们可以放置在 ALTO 2500 冷冻工作站或ALTO 1000 的液氮泥加工站中*。
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