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VTC-1RF-SPC磁控溅射蒸发镀膜仪
磁控溅射蒸发镀膜仪VTC-1RF-SPC是一套可实现射频磁控溅射和蒸发镀膜功能的系统,包含射频电源、温控型蒸发镀膜模块、真空系统,水冷设备,磁控溅射靶头,不锈钢腔室等。产品名称VTC-1RF-SPC
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GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪
GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。主要特点1、设有
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GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪
产品简介:GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪可设定程序,并精确控制温度200oC-1500oC(或者1200oC-1700oC),最大可蒸镀直径2"的薄膜样品,样品台可旋转,以获得
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VTC-600G高真空磁控溅射仪
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300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF
VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作
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VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪
产品简介:VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪,包含一个2英寸水冷靶头(另有1英寸靶头可选)和可旋转样品台。水冷靶头使镀膜后的样品表面不会因镀膜温度过高而变形
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VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
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磁控溅射卷绕镀膜机
产品简介:磁控溅射卷绕镀膜机是磁控溅射多用途卷绕镀膜设备,适用于在 PET 和无纺布上镀制金属膜(铜,铝等)功能性薄膜,设备采用先进的磁控溅射镀膜技术,配备直流、射频磁控溅射系统,适合镀制软磁合金膜
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