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VTC-200真空旋转涂膜机
胶时间进行设置,当匀胶时间结束后机器自动停止运转,涂膜的整个过程结束VTC-200真空旋转涂膜机利用高速旋转使粘滞系数较大的胶体、溶液等材料均匀地涂覆在样件表面。产品名称VTC-200真空旋转涂膜机
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VTC-100真空旋转涂膜机
VTC-100真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便,体积小巧等优点,主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。设备标配3个不同大小的真空吸盘,可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘。
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VTC-100真空旋转涂膜机
产品名称VTC-100真空旋转涂膜机产品型号VTC-100安装条件本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水:设备配有进出水口。2、电:AC220V
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VTC-200真空旋转涂膜机
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VTC-200PV真空旋转涂膜机
产品简介:VTC-200PV真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。本机可以对涂膜机腔室进行抽真空,使样品在完全真空的状态下进行涂膜
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VTC-200P真空旋转涂膜机
VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。VTC-200P真空旋转涂膜机腔体不可抽真空,工作时利用真空盘吸附的方式将样品
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VTC-100PAX真空旋转涂膜机
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VTC-100PA真空旋转涂膜机
VTC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。设备标配两个不同大小的真空吸盘,可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘。
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VTC-200P真空旋转涂膜机
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VTC-200PV真空旋转涂膜机
VTC-200PV真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。
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