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VTC-600G高真空磁控溅射仪
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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
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VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
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VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪
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SBC-12小型离子溅射仪
本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜,仪器操作简单方便,是样品制备所必备的仪器。适用的靶材:金、铂、铬、银、钛、铜、镍、金钯合金等
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GVC-1000小型离子溅射仪
主要适用于扫描电镜镀覆导电膜,仪器操作简单方便,是样品制备所必备的仪器。适用的靶材:金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等
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VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪
VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪(直流普通型),控制面板采用触摸屏模式,基片极限尺寸为2″,放置样品的直径为Ø50mm,加热温度达500℃。
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VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪
产品简介:VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸为2英寸,且样品台的高度可以调节。此款镀膜仪设计主要是制作一些金属薄膜,最大制膜面积为4英寸。 产品型号VTC-16-D小型直流磁控等离子
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BRIGHT KAS-2000F 离子溅射仪
KAS-2000F离子溅射是布莱特公司针对SEM/TEM开发出的zei新产品,它可以对不导电样品进行喷镀,使导电性不理想的样品也能够在SEM/TEM中进行观测。
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