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DMD无掩模光刻机
DMD无掩模光刻机 DMD无掩模光刻机 SmartPrint UV SystemDMD无掩模光刻机SMART PRINT UV是一种基于DMD投影技术的无掩模光
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DMD无掩膜光刻机
DMD无掩膜光刻机高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机!AU-PALET光刻机是一款紧凑的DMD式无掩膜光刻机拥有高速、广范
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小型台式无掩膜光刻机
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光刻机
功率计在工业上有广泛应用,包括NIKON,CANON,ASM等知名光刻机制造商均使用OAI光功率计。 OAI也生产光刻机,尤其是OAI MODEL 800系列双面曝光机,在世界范围内有着非常广泛的
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光刻机
服务,赢得了用户的青睐。 感谢南开大学,中科院半导体所,中科院长春应化所,中科院物理所,浙江师范大学使用此设备做课题研究!! 此型号光刻机是所有进口设备中性能价格比zei高的型号,达到欧美品牌的
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光刻机
仪器简介:又名:掩膜对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机等; 全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩膜对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米
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光刻机
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Ushio 手动光刻机-手动光刻机干嘛的
Ushio手动光刻设备UPE-1102LU主要应用于LED芯片(蓝白光,红黄光)研发和生产当中,并且对全自动生产线所产生的LED芯片破片有辅助生产和处理的功能。同时也能对应一些较为特殊材质的芯片如
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普敦氮气发生器—多品牌LC-MS通用
技术参数型号NG General 42A-1C所用技术超细化中空纤维膜分离出口流速142L/min@0-116psi悬浮液体无邻苯二甲酸盐所有材料不含邻苯二甲酸盐空压机有操作环境温度5°C - 40
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普敦氮气发生器—多品牌LC-MS通用
技术参数型号NG General 80A-1C所用技术超细化中空纤维膜分离出口流速180L/min@0-116psi悬浮液体无邻苯二甲酸盐所有材料不含邻苯二甲酸盐空压机有操作环境温度5°C - 40
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