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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
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VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪
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VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪
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双靶磁控溅射仪--VTC-600-2HD
VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜
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VTC-600G高真空磁控溅射仪
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VTC-1RF-SPC磁控溅射蒸发镀膜仪
磁控溅射蒸发镀膜仪VTC-1RF-SPC是一套可实现射频磁控溅射和蒸发镀膜功能的系统,包含射频电源、温控型蒸发镀膜模块、真空系统,水冷设备,磁控溅射靶头,不锈钢腔室等。产品名称VTC
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VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪
产品简介:VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪,包含一个2英寸水冷靶头(另有1英寸靶头可选)和可旋转样品台。水冷靶头使镀膜后的样品表面不会因镀膜温度过高而变形
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VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪
VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪(直流普通型),控制面板采用触摸屏模式,基片极限尺寸为2″,放置样品的直径为Ø50mm,加热温度达500℃。
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磁控溅射源/靶枪
技术参数: 我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶枪 安装法兰口径:NW63CF,NW100CF 真空腔体内长度范围:150-400mm
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