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微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD
微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD), 通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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微波等离子化学气相沉积系统
微波材料学工作站--微波等离子化学气相沉积系统主要用途:★该系统既可用作传统的化学气相沉积设备,又可用作微波能化学气相沉积设备,同时又是微波等离子化学气相沉积设备★主要为应用在半导体, 大范围的
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 多种工艺气体
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微波等离子体增强化学气相沉积系统
耦合等离子体刻蚀系统、微波打胶机(去胶机)、反应等离子体灰化设备、微波等离子体增强化学气相沉积系统MPECVD等; 该微波等离子体增强化学气相沉积系统MPECVD系统,主要用于单晶、多晶金刚石
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用于微机电系统
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用光子学
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用微流体技术
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