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溅射离子源(用于样品表面清洗)
仪器简介: 典型应用是氩离子溅射清洗表面 溅射清洗 /表面准备,用于表面科学, MBE ,高真空溅射过程 离子辅助沉积 离子束溅射镀膜 反应离子刻蚀 IG2 2kV
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DESI XS离子源
DESI成像技术通过将喷雾溶剂连接于毛细管上,施加一定的高电压,在氮气的辅助下形成带电喷雾液滴,轰击样品表面,带电溶剂和待分析物同时发生电析和解离,去溶剂化后,沿着传输毛细管进入质谱进行分析。
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离子源
对于质谱来说,质量分辨率、质量精度,尤其是灵敏度方面的性能与离子化方式紧密相关。没有任何离子源能满足所有应用的需求。无论是极性和非极性的化合物的分析,还是小分子和大分子化合物的分析都需要不同的离子化
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VeriSpray™PaperSpray纸喷雾离子源
使用Thermo Scientific™VeriSpray™PaperSpray离子源缩短周转时间,降低每次测试成本,并最大程度地减少样品制备,这是一种全自动,高通量,直接电离技术,可与我们最新的
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VeriSpray™PaperSpray纸喷雾离子源
使用Thermo Scientific™VeriSpray™PaperSpray离子源缩短周转时间,降低每次测试成本,并最大程度地减少样品制备,这是一种全自动,高通量,直接电离技术,可与我们最新的
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岛津原位探针电喷雾离子源DPiMS-8060
上市时间:2019年6月技术特点: 1、高性能的样品原位质谱分析。 2、无需直接加热,适用于热不稳定化合物分析。 3、有效避免复杂基质对质谱仪的污染。 适用于各类样本的测定,如: 1、体液,如血和
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Agar镀膜仪喷金仪B7341
, FEI, Tescan, Phenom等扫描电镜 【产品详情】Agar 全自动喷金仪(离子溅射仪)为英国进口设备,操作简单,适用于扫描电镜样品制备,可喷金、铂、金/钯、铂/钯、银等。喷金仪
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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 用于铝表面溅射沉积 ZrN 薄膜
河北某大学研究室为了研究磁控溅射时间和氮气流量对 ZrN 薄膜色度的影响, 采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助在铝表面溅射沉积ZrN 薄膜 KRI 射频离子源 RFICP380
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岛津高分辨液质联用微流量电喷雾离子源
Micro-ESI 9030,一种用于LCMS-9030适配微流量分析的离子源接口,该接口兼容Nexera Mikros微流量液相。 在LCMS系统中,相比半微流量分析(100-500 mL/min
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SBC-2型试样表面处理机用于溅射靶电极
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