-
Obducat电子束刻蚀系统
仪器简介:1998年Obducat公司并购了在SEM有三十年经验的Camscan,并结合自身在纳米压印设备以及光存储设备的开发经验,研发了电子束刻蚀设备,提供EBR-30kV
-
Gatan 精密刻蚀镀膜系统PECS II 685
ALT 327,为 ALTO 冷冻扫描电镜系统而设计的撞击式冷冻制样设备,提供了样品载体和样品载台,它们可以放置在 ALTO 2500 冷冻工作站或ALTO 1000 的液氮泥加工站中*。
-
JBX-6300FS 电子束光刻系统
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形
-
JBX-9500FS电子束光刻系统
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印
-
JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
-
JBX-3200MV电子束光刻系统
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
-
离子束刻蚀/沉积系统
-
JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统
JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统zei新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统,通过全方位的设计优化,实现更简便的操作,更快的刻写速度,更小的占地面积和安装空间,并且更加绿色节能。产品
-
Gatan SmartEMIC 电子束感应电流测量系统
-
上海纳腾高精度电子束曝光系统
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)
-
1.
国务院印发《推动大规模设备更新和消费品以旧换新行动方案》
-
2.
47项新食品安全国家标准发布,重点强化添加剂、微生物检验
-
3.
屹尧科技全球首款微波消解“无人机” 获中国检验检测学会技术发明一等奖
-
4.
是谁在315晚会破防?2024曝光事件合集
-
5.
【突发】河北燕郊惊现巨大爆炸,现场烟尘滚滚!
-
6.
投入1.8万亿,河南公布764个省重点实验室、科技产业等建设项目
-
7.
河北省教育厅率先发起:高校设备大规模更新换新行动启动
-
8.
2022-2023年气质联用仪新品 fg级检出限 使用氢气载气
-
9.
遨游专题:仪器设备大规模更新——瞄准“高端、智能、绿色”新产品 招商啦!
-
10.
艾捷博雅原创磁性固相萃取技术 获中国检验检测学会科学技术进步一等奖
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net