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在线前处理气相色谱质谱联用仪 GPC-GCMS/MS
仪器简介: TO BE A BEST IN THE WORLD NEW GCMS-QP2010Plus DEBUT 具备出类拔萃的检测能力和分析效率的GCMS 随着科学技术的
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多功能薄膜制备系统-Nano PVD
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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T-SERS表面增强拉曼芯片
纳米雕刻技术,藉由等离子体在近场金属纳米结构的交互作用,增强待测目标的拉曼信号。气相沉积纳米雕刻技术 PVD纳米雕刻技术属于一种物理气相真空镀膜方式,使用电子枪系统将粒状固态金属靶材溶化并以磁场轰击
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韵翔 T-SERS银纳米表面增强拉曼芯片
纳米雕刻技术,藉由等离子体在近场金属纳米结构的交互作用,增强待测目标的拉曼信号。气相沉积纳米雕刻技术 PVD纳米雕刻技术属于一种物理气相真空镀膜方式,使用电子枪系统将粒状固态金属靶材溶化并以磁场轰击
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全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000用于靶材
液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动放气、溅射电流范围大、溅射效率高、颗粒度小、样品表面无温升,适用温度敏感性样品等特点,可适用金、铂、银、钛、铬、铝、铜、铅等常用靶材。
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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物理气相沉积(PVD)NextCVD NextCVD(ICP-LP-PE-CVD)
NextCVD系列多功能宽密度等离子体CVD是一种国内的电感耦合等离子体,基于中频13.56MHz的电源发生器。这种等离子体密度较低,采用螺旋管式结构,主要用于等离子体刻蚀,不适合用于沉积高质量薄膜
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微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD
微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD), 通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
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