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不知道大家的在测试薄膜的XRD会不会带出衬底的信息,目前我测试的时候总是衬底的峰太强,导致样品的峰被压得看不见了!!郁闷啊。。有没有谁有比较好的解决方法啊、、,看是什么基底了啊,一般用的硅片基底是特定晶面,没有峰。但是如果是氧化铝基底就会
2016年02月23日发布人:跳跳哈里
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本人才用硝酸刻蚀银片的方法制备活性基底,但在制备过程种无法得到理想的效果,是否在制备中有什么地方应该特别注意?,1. 刻蚀的时间注意下 还是挺好做得
2. 基底的制备,用硝酸腐蚀,首先,你的银片质量要过关,表面的杂志要除掉,所以银片一定要打磨光滑,然后,就是要注意腐蚀的时间,这个是很重要的
2010年03月28日发布人:hongxiuj
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。具体来说就是用什么衬底?产物需要做什么处理?如何分散地比较均匀?,一般都是先滴在硅片上,效果会好点。楼主,看sem前样品是要清洗干净的,你这基底是什么?不清晰,没洗干净?用乙醇分散后再离心清洗,多洗几次就干净了,要用溶剂反复清洗多次,清洗
2015年01月16日发布人:小书虫
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很多厂家都用CCD检测器来检测,不过到底是做反射还是其他的方法。都有用什么厂家的检测器为多啊?,是关于大米的色度检测么?,是的,请指教!谢谢!,有没有哪位了解啊?,我使用过Minota的色度仪,测定L,a,b值,L应该是亮度了.,目前用CCD做检测器的多用滨松的,也有用索尼的。置于lz说的大米选色的
2016年03月28日发布人:jiushi
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Corning(R) Matrigel(R) 基质胶,胞外基质产品中的“金标准”。
Corning(R) Matrigel(R)是从富含胞外基质蛋白的EHS小鼠肿瘤中提取出基底膜基质,在
2015年10月15日发布人:冰儿0109
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有时候突然就好了!,载流荧光值在30-40应该很低了,载流荧光值在30-40,灵敏度很低啊,光电倍增管负高压和灯电流等条件设置是否正确。不进样状态看看荧光值有多少,排除光源、光电倍增管问题。看看氩氢焰是否正常,是否有漏气等。,载流荧光值在
2015年07月13日发布人:teddy
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ZT
[size=3]光电倍增管的灵敏度和工作光谱区间主要取决与于光电倍增光阴极和打拿极的光电发射材料。光电倍增管的短波响应的极限主要取决于窗的材料,而长波向应极限主要取决于阴极和打拿极材料的性能。一般用于可见-红外光谱区的
2011年03月22日发布人:JessieDing
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!,尺寸的控制精度要求真高,话说我还没做过控制颗粒尺寸的,你分散的方法和操作步骤应该相同的吧,颗粒应该不会发生形变吧,不解?,我说的形变不是颗粒发生了聚集,而是因为吸附和基底相互作用,促使颗粒形状从高能向低能构型的转变。比如正常是球形,而吸附到基底上则
2016年03月12日发布人:但是
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增强技术正在往实用化方面发展,目前商品的表面增强基底国外已经有售(我用过),国内也有人在做(具体情况不明,宣传不到位),PPM级别的确实很难做到,而且也分要测试的样品的拉曼活性,浓度等,最主要的是不是基底上被滴上样品区域的每一个点都能测出信号,通常找了几十个点
2015年10月16日发布人:efp
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[b][color=Blue]关于ICP检测系统CCD的知识[/color][/b]
原子发射光谱的检测目前采用照相法和光电检测法两种。前者用感光板而后者以光电倍增管或电荷耦合器件(CCD)作为接收与记录光谱
2011年03月25日发布人:JessieDing