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气相色谱仪
:≤30uV(载气为99.999的氢气) ECD:检测限:≤5×10-12g/s(N) (r-666) 基线噪声:≤2×10-13A/H FPD :检测限:≤5×10-12g/s(N) 基线噪声:≤2
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Clarus 590 气相色谱
全新的Clarus 590气相色谱引入新技术,改进灵敏度,降低残留效应,使得整个系统易于使用和维护。全新的Clarus 590采用和Clarus 690相同的创新设计,可选择zei通用的样品处理系统
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Clarus 690 气相色谱
Clarus 690 气相色谱仪专为需要增加分析周期时间的快节奏、高容量实验室设计,优化您的气相色谱分析,提供卓越的灵敏度、容量和处理量——可灵活处理更多问题。我们业界领先的解决方案包括顶空(HS
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高效液相-电化学
和检测器为一体式设计,非独立分开,操作简单,节省空间;3. 电化学检测器具有高灵敏度和稳定性,神经递质检测灵敏度可达30fmol,乙酰胆碱可达5fmol级别;4. 高压泵压力不低于20Mpa, 流速
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PECVD沉积
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承
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溅射设备 MVS
用于柔性衬底的Reel-to-reel多室系统 - 主要产品碳热丝化学气相沉积设备 掺氟纳米硅(微晶硅)材料P型宽带隙非晶硅材料 掺氟二氧化锡绒面透明导电膜(与日本Asahi公司合作)公司生产
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Bench-Top Plasma Tool
历史悠久的等离子系统供应商,提供的真空等离子系统主要应用于图案转换中薄膜沉积,刻蚀,如微电子,MEMS,光伏,光电,纳米科技等行业领域。 AGS TT-RIE/CVD/PECVD 2012年
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高纯气分析 气相色谱仪
1801 3291691 95305 高纯氩TCD标气谱图───────────────────────序号 保留时间 名称 浓度 峰面积
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华爱GC-9560-EG电子气体分析用氦离子化气相色谱仪
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Thermo 三区/单区 管式炉
管式炉设计用于材料沉积之用,广泛适用高、中、低温CVD工艺,例如:碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等;也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理。 管式
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