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司特尔 TargetSystem
仪器简介:Struers TargetSystem专为研发和失效分析实验室的目标试样制备和其它高精度的试样制备而设计制造,系统精度为+-5微米。主要应用于包括微电子元器件、分层剥离和FA等需要进行微
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塞来昔布
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司特尔金相磨抛机LaboPol-6/-5/-4
仪器简介:速度可变的沙磨、研磨和抛光机。低速12~120 rpm用于敏感材料的柔和制备(-4),50~500 rpm(-5)或120~1200 rpm用于氧化铝的抛光(-6)。主要特点:- 使用简单
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安东帕RapidOxy 100快速氧化安定性测试仪
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