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立式炉
GSL-1700X-VT GSL-1700X-VT是一款通过CE认证的高温立式管式炉,采用硅钼棒进行加热。专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结,zei高温度可以达到1700
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微型箱式炉
升温速度(达到zei高温)20°C/ min内部尺寸150mmX155mmX180mm (4.2L)加热方式掺钼铁铬铝合金zei大功率2.5kw控温精度+/- 1℃zei高温度1200°C仪器
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4英寸真空立式淬火炉
OTF-1200X-4-VTQ OTF-1200X-4-VTQ是立式可开启真空管式淬火炉,石英管直径100mm,配有一个密封的液体容器用于样品淬火,温度从zei高1200度到冰水或油,可用于
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带有预热系统的滑动PECVD
升温速度(达到zei高温)20℃/min内部尺寸OD:100mm×ID:94mm×Leng1450mm加热方式掺钼铁铬铝合金(表面涂有氧化锆涂层,可延长使用寿命)zei大功率4KW控温精度±1
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铝酸钕钙(NdCaAlO4)晶体基片
产品名称:铝酸钕钙(NdCaAlO4)晶体基片产品简介:技术参数:晶体结构:四方晶格常数:a=3.685 c=12.12 生长方法:提拉法熔点:1850℃密度:5.56g/cm3莫
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A-Z系列薄膜列表
A-Z系列薄膜列表 本公司可提供A-Z系列各种进口或者国产的薄膜,欢迎广大新老客户垂询订购! A-S系列薄膜 S-Z系列薄膜AIN薄膜Si+SiO2+Pt薄膜(进口
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AL2O3晶棒
稳定性好。广泛用于耐高温红外窗口材料和III-V族氮化物及多种外延薄膜基片材料,为满足日益增长的蓝、紫、白光发光二极管(LED)和蓝光激光器(LD)的需要,科晶公司专业生产高质量的蓝宝石晶体和外延抛光
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Ge晶体基片
产品名称:Ge晶体基片产品简介:化学符号为Ge ,主要用途有:制作半导体器件、红外光学器件及太阳能电池衬底。技术参数:晶体结构:立方:a = 5.6754 ?;生长方法:提拉法;密度:5.765
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精确恒压控制型气动压机
技术参数气动压力最大压力: 2000N ( 200 kg )气动轴最大行程: 200 mm Max.工作面积: 110 mm diameter工作时需要与空气压缩机连接(设备中不包括)压力
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小型锤式破碎机
技术参数工作电压208 - 240VAC 50/60Hz, 1500W样品尺寸进料尺寸 < 70 mm出料尺寸:3 - 6 mm产率 ~ 200 kg/hr 锤头锤头采用高锰钢制作6mm
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