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牛津仪器OPAL原子层沉积系统(ALD)
ALD应用举例:纳米电子学高k栅极氧化物存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层钝化晶体硅太阳能电池应用于微流体和MEMS的高保形涂层纳米孔结构的涂层
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铁路系统系列探伤设备
产品详情探伤方法双晶直探头/横波斜探头探伤方式水膜耦合/接触法检测速度列车最大行驶速度4.5km/h可探测轮辋深度车轮踏面下10~30mm深度范围内的连续壳层检测灵敏度踏面下30mm处
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HWY-2112双层全温摇床
HWY-2112双层全温摇床技术参数旋转频率:50∽300rpm频率精度:±1rpm摆振幅度:Φ25mm内部容量:1000mlx56或500mx90或250mlx92托盘尺寸:740
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HTD 1500硬化层深度快速测量仪
需求,通过键盘设定,马达驱动测试范围:层深0.05-1.3mm(小深度可选)硬度示值误差:符合ISO 6507-2及GB/T4340.2硬度示值重复性误差:符合ISO 6507-2及GB
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HRG-1000植物冠层分析仪
植物冠层分析仪-HRG-1000参数:1、测量范围:0-2700μmol m-2s-12、分辨率:1μmol m-2s-1相对差度(谱响应):<10%(对植冠)精度:
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NLD-3500 (A) 全自动原子层沉积系统
NLD-3500(A)全自动原子层沉积系统特点:NLD-3500(A)是一款全自动独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为
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SUPERALD Exploiter原子层沉积大尺寸沉积系统
设备规格工艺温度:温度范围:RT~500°C 精度:土1°C(可定制)前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2路
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SUPERALD 原子层沉积 等离子增强系统 PEALD
设备规格工艺温度:温度范围:RT~500°C (可定制)前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2路反应物气路(可
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原子层沉积系统PICOSUN™P300S
原子层沉积系统PICOSUN™P300S 技术参数:衬底尺寸和类型zei大300mm单片晶圆高深宽比基底(zei大深宽比1:2500)工艺温度50 – 500°C标准工艺批量生产的平均工艺
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牛津Oxford原子层刻蚀机PlasmaPro 100 ALE
· 能加工最大200mm的晶圆· 高深宽比(HAR)刻蚀工艺我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。 牛津Oxford原子层刻蚀机
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