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安捷伦 Cary 3500 多池紫外-可见分光光度计 多区控温功能
Cary 3500 多池紫外-可见分光光度计是一款双光束分光光度计,提供全新的独特 UV-Vis 测量功能,可部署在受监管的环境中。该系统通过风冷帕尔帖温度控制,可同时在八个比色皿位置处
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罂粟壳含量速测仪
CSY-JAYS罂粟壳含量速测仪可快速检测罂粟壳、罂粟碱、咖啡因、西地那非、他达拉非、阿伐拉非、雌酮、雌二醇、雌三醇、睾酮、糖皮质激素等药物残留。
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363加热壳固化配件
363加热壳固化配件用于固化拉伸和横向壳试样。单元由两个板组成,每个板配备两个内部加热单元和一个用于控制的恒温器。 多试样模具放置在底部加热板上并填充沙子。剥离后,将第二个加热板放置在模具上
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安东帕SAXSpaceX射线散射仪小角X-射线散射仪 研究薄片层体系的内部结构
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PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀半导体检测仪 可检测Semiconductor
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半导体检测仪原子层刻蚀牛津仪器 适用于Semiconductor
牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE用于测定Semiconductor,符合行业标准Oxford Instruments。适用Semiconductor项目。 Plasma
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PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀半导体检测仪 可检测Material
失效分析的干法刻蚀解剖逆工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用高K栅氧化物
原子层沉积(atomiclayer deposition,ALD)技术,亦称原子层外延(atomiclayer epitaxy,ALE)技术,是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积技术
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀 应用射频器件低损伤GaN刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用纳米多孔结构的涂层
原子层沉积技术起源于上世纪六七十年代,由前苏联科学家Aleskovskii和Koltsov首次报道,随后,基于电致发光薄膜平板显示器对高质量ZnS: Mn薄膜材料的需求,由芬兰Suntalo博士发展
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