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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀 适用于Power Semiconductors
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀 应用于纳米材料
二氧化硅和石英刻蚀用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖逆工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层
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PlasmaPro 100 ALE牛津仪器原子层刻蚀 应用于纳米材料
牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE用于测定Power Semiconductors,符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀 应用VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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大同钢板镀锌层测厚仪TT2600价格
详细介绍石家庄兰宇科技便携式油漆测厚仪TT2600一体机一.主要特点1、测量速度快2、精度高 3、稳定性好 4、保修3年 5 使用磁性、涡流两种原理对不同材料间的测量自动转换,无须校准.二.测量方法
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ICP-MS电感耦合等离子体质谱仪莱伯泰科ICP-MS 可检测微量元素在人体中占比虽少
莱伯泰科 ICP-MS电感耦合等离子体质谱仪LabMS 3000可以用在多个行业领域,用来检测微量元素在人体中占比虽少,但各种微量元素不仅各自独立作用,可完成尿中多元素的快速测定项目。符合多项
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原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE牛津仪器 应用于电子/半导体
高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀
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原子层刻蚀牛津仪器PlasmaPro 100 ALE 应用于电子/半导体
和石英刻蚀用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖逆工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化
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原子层刻蚀半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE 失效分析
刻蚀用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖逆工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化以及诸多
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原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE牛津仪器 应用于电子/半导体
点击查看下载原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE牛津仪器 应用于电子/半导体相关资料,进一步了解产品。 牛津仪器PlasmaPro 100 系统-2017
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