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EXPEC 2000(规格:112)微型化非甲烷总烃在线分析系统
产品概述EXPEC 2000(规格:112)微型化非甲烷总烃在线分析系统采用GC-FID法,非甲烷总烃从总烃中分离后直接测定非甲烷总烃浓度(直接法)。非甲烷总烃采用低温富集热脱附技术,甲烷采用定量环
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ICP-MS电感耦合等离子体质谱仪莱伯泰科ICP-MS 可检测微量元素在人体中占比虽少
莱伯泰科 ICP-MS电感耦合等离子体质谱仪LabMS 3000可以用在多个行业领域,用来检测微量元素在人体中占比虽少,但各种微量元素不仅各自独立作用,可完成尿中多元素的快速测定项目。符合多项
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原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE牛津仪器 应用于电子/半导体
高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀
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原子层刻蚀牛津仪器PlasmaPro 100 ALE 应用于电子/半导体
和石英刻蚀用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖逆工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化
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原子层刻蚀半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE 失效分析
刻蚀用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖逆工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化以及诸多
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原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE牛津仪器 应用于电子/半导体
点击查看下载原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE牛津仪器 应用于电子/半导体相关资料,进一步了解产品。 牛津仪器PlasmaPro 100 系统-2017
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原子层刻蚀牛津仪器PlasmaPro 100 ALE 应用于电子/半导体
点击查看下载原子层刻蚀牛津仪器PlasmaPro 100 ALE 应用于电子/半导体相关资料,进一步了解产品。 牛津仪器PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀 我们的设备和工艺已通过充分验证
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牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE 应用于电子/半导体
牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE可以用在电子/半导体行业领域,用来检测Semiconductor,可完成Semiconductor项目。符合多项行业标准Oxford
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用存储电容电介质
所谓的原子层沉积技术,是指通过将气相前驱体交替脉冲通入反应室并在沉积基体表面发生气固相化学吸附反应形成薄膜的一种方法。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可
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PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀牛津仪器 Plasma Solutions
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