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Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统
Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术,在惰性气体进入口安装感应线圈,周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与
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PECVD沉积
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承
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等离子刻蚀ICP
Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批处理
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AT-400 原子层沉积
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的
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Tergeo等离子清洗机
Direct & downstream 清洗模式典型的应用: 引线键合倒装芯片底部填充,器件的封装和解封 光刻胶灰化、除渣、硅片清洗 PDMS/微流
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iAssistant 4000液体处理工作站
实现96或384孔板移液操作的自动化、智能化 iAssistant 4000是新一代的全自动液体处理装置,它外部配备大型10.1寸彩色触控屏幕,内部搭载windows CE作业系统与
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Bench-Top Plasma Tool
模块化的TT-150适合半导体MEMS,TFT,PV的2寸---6寸应用。AGS TT 等离子系统在一个平台上提供了所有的功能特征 AGS公司推出一个新型的,桌面式 TT-150—RIE
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LabWare实验室信息管理系统
雀巢公司Unilever Bestfood 联合利华Pepsi Cola 百事可乐……(仅列出部分名单,排名不分先后,更多请访问www.Labware.com) LabWare(莱博韦尔
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LabWare LW-LIMS V6 / ELN V3实验室信息管理系统
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7MMP1 偏光镜架(7MMP138,7MMP156)
7MMP13838mm57660.05kg7MMP15656mm75860.07kg 配套产品: 7MMC125柱面镜架 7MMPH1系列偏光镜筒 7MMP1 偏光镜架(7MMP138,7MMP156
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