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NaCha 多温区工作台
配置参数货号GT20401型号NaCha名称多温区工作台英文名称Multi-Temp Platform电源AC100~240 V, 50/60 Hz, 3.5 A升温时间高温区≤8 min
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微区扫描电解池装置
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1200℃单/双温区CVD系统
CVD管式炉是利用气态化合物或化合物的混合物在基体受热面上发生化学反应,从而在基体表面上生成不挥发涂层的一种薄膜材料制备系统 CCVD管式炉由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源
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NaCha 多温区工作台
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中红外指纹区成像仪
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1100℃双管三温区管式炉
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1200℃三温区可倾斜旋转炉
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NaCha Pro多温区工作台
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1400℃立式单温区管式电炉
二、结构实用性; 1、炉膛材料采用优质的多晶莫来纤维真空吸附制成,节能50%,温场均匀。电热元件采用表面温度1500度的优质硅碳棒。 2、密封法兰采用双环密封技术,有效的提高了炉管
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SciDre高温高压光学浮区炉
熔区温度最高2000 - 3000℃以上熔区压力最大10、50、100、150、300 bar可选熔区真空1*10-2 mbar或 1*10-5 mbar可选熔区气氛Ar、O2、N2等可选气体
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