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美国Laurell匀胶机650-23N-匀胶机说明书
匀胶机(英文名:Spin Coater)适合半导体硅片的匀胶镀膜 详细介绍:匀胶机(英文名:Spin Coater& Spin Processor) 行业俗称:匀胶台、匀胶机、旋涂仪、涂胶机
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Labconco® 干胶仪
产品特色● 干胶仪可对zei大达33.6×42.3cm的凝胶进行处理,用于对凝胶的保存或后续的放射自显影等处理● 800 W的加热器使面板温度温和而均匀● 两个独立的计时器,分别对加热和真空进行计时
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匀胶机POLOS Advanced系列湿法刻蚀处理系统 应用于电力
匀胶机POLOS Advanced系列湿法刻蚀处理系统 应用于电力有特定规范与标准,应用于纳米材料行业领域。点击查看相关规范标准。 基片范围 3、Post-CMP Cleaning在CMP之后,表面
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匀胶机湿法刻蚀处理系统POLOS Advanced系列 应用于航空/航天
匀胶机湿法刻蚀处理系统POLOS Advanced系列 应用于航空/航天有特定规范与标准,应用于电力行业领域。点击查看相关规范标准。 基片范围 3、Post-CMP Cleaning在CMP之后
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SM-150匀胶机
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匀胶机,旋涂仪
匀胶机适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺, 可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。匀胶机可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蚀中也被广泛使用。
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经济型 匀胶机
享有很高的声誉,我司作为该品牌的独家代理,将竭诚为广大客户服务。 匀胶机有许多名称:甩胶机、涂胶机、涂层机、旋转涂胶机、主要应用于溶胶凝胶(Sol-Gel)实验中的薄膜制作。其工作原理是高速旋转
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德国SPS POLOS匀胶机
德国SPS POLOS匀胶机SPIN150i采用无刷式马达,具有转速稳定,启动快速,涂胶一致性和均匀性好等特点,广泛应用于钙钛矿太阳能电池、半导体芯片制造、MEMS等领域。
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湿法刻蚀处理系统匀胶机POLOS Advanced系列 应用于电子/半导体
湿法刻蚀处理系统匀胶机POLOS Advanced系列 应用于电子/半导体有特定规范与标准,应用于高分子材料行业领域。点击查看相关规范标准。 基片范围 一、POLOS Advanced系列湿法刻蚀
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湿法刻蚀处理系统POLOS Advanced系列匀胶机 应用于机械设备
湿法刻蚀处理系统POLOS Advanced系列匀胶机 应用于机械设备有特定规范与标准,应用于电子/半导体行业领域。点击查看相关规范标准。 基片范围 一、POLOS Advanced系列湿法刻蚀
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