-
牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD镀膜机 应用于纳米材料
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD适用于Power Semiconductors项目,参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power
-
镀膜机PlasmaPro 100 PECVD牛津仪器 应用于电子/半导体
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD用于测定Power Semiconductors,符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors
-
PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备牛津仪器 可检测Semiconductor
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra用于测定Semiconductor,符合行业标准Oxford Instruments。适用Semiconductor项目。 Plasma
-
刻蚀和沉积设备牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra 可检测Material
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra可用于测定Nano Material,适用于Nano Material项目。并且参考多项行业标准Oxford Instruments。可应用
-
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra 适用于Semiconductor
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra用于测定Semiconductor,符合行业标准Oxford Instruments。适用Semiconductor项目。 Plasma
-
PlasmaPro 100 PECVD镀膜机牛津仪器 应用于高分子材料
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD用于测定Nano Material,符合行业标准Oxford Instruments。适用Nano Material项目
-
牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备 应用VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
-
刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra牛津仪器 应用于生物质材料
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Nano Material的检测。可以用在高分子材料行业领域中的Nano
-
牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备 应用射频器件低损伤GaN刻蚀
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
-
沉积系统牛津仪器
OpAL系统是一种直接开放式热原子层沉积(ALD)设备,其中包含等离子体选项。它可以轻松升级为等离子体ALD,实现在一个紧凑的设备中结合等离子体和热ALD。这款紧凑型直开式热原子层沉积(ALD)设备
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net