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PECVD沉积
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承
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等离子刻蚀ICP
Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批处理
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AT-400 原子层沉积
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的
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Tergeo等离子清洗机
bonding: RF power 15WattRF pulse duty ratio: 10% to 20%Gas: Room airFlow rate: 5sccmTime: 30~60
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Bench-Top Plasma Tool
模块化的TT-150适合半导体MEMS,TFT,PV的2寸---6寸应用。AGS TT 等离子系统在一个平台上提供了所有的功能特征 AGS公司推出一个新型的,桌面式 TT-150—RIE
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iAssistant 4000液体处理工作站
实现96或384孔板移液操作的自动化、智能化 iAssistant 4000是新一代的全自动液体处理装置,它外部配备大型10.1寸彩色触控屏幕,内部搭载windows CE作业系统与
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LabWare实验室信息管理系统
雀巢公司Unilever Bestfood 联合利华Pepsi Cola 百事可乐……(仅列出部分名单,排名不分先后,更多请访问www.Labware.com) LabWare(莱博韦尔
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LabWare LW-LIMS V6 / ELN V3实验室信息管理系统
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落球冲击跌落试验机技术规格书
产品简介:符合GB7000.1-2007-4.13.4中之a类灯具--恶劣条件使用的固定式灯具和恶劣条件使用的可移动式灯具(非手提灯)进行跌落冲击试验要求,考核相关灯具整体或连接灯具的支架的
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No.542-AB-H 自动涂膜器(加热板规格)
No.542-AB-H 自动涂膜器(加热板规格)测试标准:JIS-K5101、(K5400)、ASTM-D823 该设备是用于制作涂料、颜料、油墨等漆膜的自动吸入式喷涂机。产品介绍:该设备是
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