-
PlasmaPro 100 Cobra半导体检测仪刻蚀和沉积设备 应用于电子/半导体
200mm晶圆沉积高质量的PECVD氮化硅和二氧化硅薄膜,用于光子学、电介质层、钝化等诸多其它用途用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极
-
PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备牛津仪器 PlasmaPro 100 系统-2017 PlasmaPro-100-Brochure
好的芯片、 裸晶片以及200mm晶圆沉积高质量的PECVD氮化硅和二氧化硅薄膜,用于光子学、电介质层、钝化等诸多其它用途用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积
-
半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra牛津仪器 样本
光子学、电介质层、钝化等诸多其它用途用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆
-
刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra半导体检测仪 应用于电子/半导体
-
半导体检测仪刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra 样本
配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖工艺,可处理封装好的芯片、 裸晶片以及200mm晶圆沉积高质量的PECVD氮化硅和二氧化硅薄膜,用于光子学、电介质层、钝化等诸多其它用途用于
-
PlasmaPro 100 Cobra半导体检测仪牛津仪器 应用于电子/半导体
-
PlasmaPro 100 Cobra半导体检测仪刻蚀和沉积设备 应用于电子/半导体
二氧化硅薄膜,用于光子学、电介质层、钝化等诸多其它用途用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有
-
牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra半导体检测仪 可检测Semiconductors
沉积高质量的PECVD氮化硅和二氧化硅薄膜,用于光子学、电介质层、钝化等诸多其它用途用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀
-
刻蚀和沉积设备牛津仪器半导体检测仪 应用于纳米材料
PECVD氮化硅和二氧化硅薄膜,用于光子学、电介质层、钝化等诸多其它用途用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内
-
半导体检测仪牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra 应用于电子/半导体
进行失效分析的干法刻蚀解剖工艺,可处理封装好的芯片、 裸晶片以及200mm晶圆沉积高质量的PECVD氮化硅和二氧化硅薄膜,用于光子学、电介质层、钝化等诸多其它用途用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net