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安东帕SAXSpaceX射线散射仪小角X-射线散射仪 研究薄片层体系的内部结构
安东帕X射线散射仪安东帕SAXSpace用于测定薄片层体系,符合行业标准。适用内部结构分析项目。 小角X射线散射(SAXS)是研究有纳米尺寸的薄片层结构样品如表面活性剂、药物载体和生物膜等非常
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三目倒置生物显微镜 WYS-37XB
长工作距离的聚光镜、平场消色差物镜及相衬装置,可 使用各种培养皿和培养瓶,特别适用对 活细胞和组织、流体、沉淀等进行显微观察。可供科研单位、高等院校、医疗卫生、农业等应用。
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三目生物显微镜 科研级 WY-910
采用了*为先进的无限远光学系统,可**可**用于生物学、医学、农林养殖、纺织纤维、化工化学粉末颖粒、药物等行业。是医疗、教学、科研等单位的理想仪器。
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用高K栅氧化物
原子层沉积(atomiclayer deposition,ALD)技术,亦称原子层外延(atomiclayer epitaxy,ALE)技术,是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积技术
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PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀半导体检测仪 可检测Semiconductor
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半导体检测仪原子层刻蚀牛津仪器 适用于Semiconductor
牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE用于测定Semiconductor,符合行业标准Oxford Instruments。适用Semiconductor项目。 Plasma
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PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀半导体检测仪 可检测Material
失效分析的干法刻蚀解剖逆工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用纳米多孔结构的涂层
原子层沉积技术起源于上世纪六七十年代,由前苏联科学家Aleskovskii和Koltsov首次报道,随后,基于电致发光薄膜平板显示器对高质量ZnS: Mn薄膜材料的需求,由芬兰Suntalo博士发展
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀 应用射频器件低损伤GaN刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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-86度超低温冰箱—真空绝热层
为130mm左右) 箱体六面都采用VIP绝热技术,大大提高隔热效率 压缩机运行时间降低(提高压缩机寿命) 耗电降低15% 断电保温时间延长22% 优越性减少保温层厚度从而增加了内部储藏空间(约增加20
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