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设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统规格与实际应用紧密协调,以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。多模式功能能够与其他等离子体刻蚀和沉积设备相集成,单晶圆传送
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