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《普析通用》杂志2007_02
2007 年第2 期(总第22 期) 目 录 总经理寄语 封二 BCEIA 专栏 2007 年北京分析测试学术报告会及展览会 (1) 普析通用公司的BCEIA 展会历程
来源:北京普析通用仪器有限责任公司 资料
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替普瑞酮胶囊中顺、反式替普瑞酮分析
来源:艾杰尔-飞诺美(Agela & Phenomenex) 应用
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Ultimate ALK-C18 奥利司他杂质分离
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来源:月旭科技(上海)股份有限公司 应用
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来源:月旭科技(上海)股份有限公司 应用
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PROFILE ICP测定二次盐水痕量杂质
ICP 二次盐水由于高浓度NaCl的影响,准确测定二次盐水中的痕量杂质只能使用标准加入法。下面的方法主要针对Leeman Labs公司的Profile,Profile Plus垂直型ICP-AES。
来源:利曼中国 资料
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利曼Prodigy直流电弧光谱仪 (DC Arc) 测定高纯铜中硫等痕量元素
来源:利曼中国 相关产品:Prodigy DC-ARC直流电弧光谱仪 应用
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盐酸左西替利嗪分析
博纳艾杰尔官方网站推出:盐酸左西替利嗪分析——应用编号:AP10021 详情请见官方网站:http://www.agela.com.cn/application/detail/75
来源:艾杰尔-飞诺美(Agela & Phenomenex) 资料
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奥沙普嗪原料药分析报告
来源:艾杰尔-飞诺美(Agela & Phenomenex) 应用
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甲氧氯普胺片含量分析
来源:艾杰尔-飞诺美(Agela & Phenomenex) 应用
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吡诺克辛原料药分析
来源:艾杰尔-飞诺美(Agela & Phenomenex) 应用
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