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苏州赛分科技股份有限公司(下称“赛分科技”)于1月4日在上交所更新上市申请审核动态,该公司已回复意见落实函,回复的问题主要有,工业纯化领域的技术特点和难点、生产模式和填料需求,发行人在工业纯化领域的竞争优劣势、获取业务和客户的方式
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生物药物包括单抗、重组蛋白、病毒载体等,通常都是通过细胞表达产生,经过纯化、除菌过滤、制剂工艺后获得。在工艺过程中会产生包括微生物污染、热原、细胞成份、培养基中的成份等外来杂质,这些杂质会影响最终药品的安全性和有效性,在开发过程中对杂质
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分析背景简介 硅片是半导体制造业的基础材料,硅片表面及少量的金属污染都可能导致器件功能的失效,所以硅片表面金属杂质测试是不可或缺的步骤。VPD跟ICPMS 联用检测硅片表面金属杂质是目前最常见的一种手段。目前 VPD也是有成熟的
2023-12-05
来源: 德国耶拿分析仪器有限公司
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法的自身稀释对照法和杂质对照品法控制其限量。以十八烷烷键合硅胶为填充剂;以水(用磷酸调节pH至3.5)-甲醇(44:56)为流动相;检测波长为240nm。以供试品溶液(0.4mg/ml)的稀释液(1%)为对照液,以10μg/ml的对乙酰氨基
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由于对乙酰氨基酚的生产工艺路线较多,不同的生产工艺路线所带入的杂质也有不同,除可能引入一般杂质外,还可能引入中间体、副产物及分解产物等特殊杂质,如对氨基酚、对氯苯乙酰胺、邻乙酰基对乙酰氨基酚、偶氮苯、氧化偶氮苯、苯醌和醌亚胺等。药典采用
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主要从三方面进行,第一从合成的角度控制,合适的工艺可以减少杂质的产生或者控制杂质的含量在较低的水平;第二从分离纯化的角度,开发有效的方法去除杂质或降低杂质含量;第三就是选择合适的储存条件,减少降解杂质的产生1)杂质研究和控制的理念以杂质谱分析
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含1mg的溶液对照溶液精密量取供试品溶液适量,用水定量稀释制成每1m中约含1g的溶液。对照品溶液精密称取盐酸羟甲唑啉杂质Ⅰ对照品与盐酸羟甲唑啉各5mg,置同一5ml量瓶中,加水溶解并稀释至刻度,摇匀;精密量取1nl,置100ml量瓶中,用水
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。色谱条件用十八烷基硅烷键合硅胶为填充剂;以0.0lmol/L硫酸氢四丁基铵溶液-乙腈-甲醇(63:26:11)为流动相;检测波长为220nm;进样体积20l系统适用性要求理论板数按洛哌丁胺峰计算不低于3000,主峰与相邻杂质峰的分离度应
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制剂注射用艾司奥美拉唑钠杂质质IH CO-CH,OCHC1H1N3O4S361.42 5-甲氧基-2[[(4-甲氧基-3,5-二甲基-2吡啶基)甲基]磺酰基]-1H-苯并咪唑 杂质ⅡH3C、OCHH C C16H15N3O4313.31
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要求与测定法见美洛昔康有关物质项下。限度供试品溶液色谱图中如有杂质峰,除相对保留时间小于0.30的色谱峰外,单个杂质峰面积不得大于对照溶液主峰面积的0.5倍(0.5%),各杂质峰面积的和不得大于对照溶液主峰面积(1.0%含量均匀度取本品1粒,将