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Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统
Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术,在惰性气体进入口安装感应线圈,周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与
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PECVD沉积
片盘的基片(3”- 300mm尺寸),或者多尺寸批处理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。Minilock-Orion III用于有毒/发火PECVD工艺。沉积薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物
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等离子刻蚀ICP
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AT-400 原子层沉积
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的
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Tergeo等离子清洗机
Direct & downstream 清洗模式典型的应用: 引线键合倒装芯片底部填充,器件的封装和解封 光刻胶灰化、除渣、硅片清洗 PDMS/微流
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iAssistant 4000液体处理工作站
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Bench-Top Plasma Tool
模块化的TT-150适合半导体MEMS,TFT,PV的2寸---6寸应用。AGS TT 等离子系统在一个平台上提供了所有的功能特征 AGS公司推出一个新型的,桌面式 TT-150—RIE
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LabWare实验室信息管理系统
& Co. 默克Novartis 诺华Pfizer辉瑞Roche 罗氏……制造和消费产品3MFord Motor Company福特汽车公司Caterpillar卡特彼勒Chanel香奈儿
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LabWare LW-LIMS V6 / ELN V3实验室信息管理系统
能存在开发失败,无法通过3Q验证等风险。LabWare LIMS包含了500多个标准功能模块,采取一次性授权方式,用户无需额外支出即可获得所有的功能模块。经过LabWare实施人员的简单培训,用户即可
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819C-GL-3 4端口积分球
819C-GL-34 端口积分球,3 英寸,漫射金涂层光谱范围0.8 to 20 μmSphere MaterialDiffused Gold 热极限 600°C面向
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