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LSC-5000 (AD) 全自动兆声大基片湿法去胶系统
光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带保护膜/不带保护膜的掩模版 最新技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体
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原子层沉积系统(ALD
Oxides氧化物: Al203, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3,etcNitrides氮化物: AlN, TiN, TaN
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NIE-3500 (M) IBE离子束刻蚀
表面清洗表面处理离子铣带活性气体的离子束刻蚀光栅刻蚀SiO2,Si和金属的深槽刻蚀 该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统,具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高
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NTE-3000 热蒸镀系统
NTE-3000蒸发系统是一个台式系统,跟我们的溅射系统共享一个共同的平台;比如:橱柜,腔体,真空系统,计算机控制架构等方面都是一样的。唯一的区别是一个使用磁控管,另一个使用加热坩埚. 因此,在
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NIE-3500 (A) 全自动IBE离子束刻蚀
NIE-3500(A)全自动IBE离子束刻蚀产品应用:表面处理离子铣表面清洗带活性气体的离子束刻蚀: 光栅刻蚀,以及SiO2,Si和金属的深槽刻蚀 该系统为全自动上下载片,并且通过计算机
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NPC- 3000 等离子刻蚀机
有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水表面
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NRE-3500 (A) 全自动RIE反应离子刻蚀机
NRE-4000:基于PC计算机全自动控制的独立式系统,占地面积26“D x 44"WNRE-3500:基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统,占地面积26“D x 26"WNRE-3000
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NRE-3000 RIE反应离子刻蚀机
NRE-4000:基于PC计算机全自动控制的独立式系统,占地面积26“D x 44"WNRE-3500:基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统,占地面积26“D x 26"WNRE-3000
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NRE-4000 (ICPM) 全自动ICP刻蚀系统
外观尺寸:紧凑型立柜式设计,不锈钢腔体,外观尺寸为44”(W) x 26”(L) x62”(H); NRE-4000(ICPM)ICP刻蚀系统是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统,系统
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得利特A1280机械杂质测定仪石油
℃? 相对湿度: ≤85%? 整机功耗: 不大于1200W A1280机械杂质测定仪符合GB/T511标准,适用于测定石油产品中的各类轻、重质油、润滑油及添加剂的机械杂质的含量
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