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精选力可BG系列磨抛机
提供单/双皮带型号（BG30/BG32），适配金相与光谱样品制备
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精选力可LECO PX500磨抛机
采用节能交流驱动和感应马达，提供平稳转速，电子精密压力控制保护易碎样品。标配5种抛光液可编程分配器和20种标准方法，支持自定义，简化抛磨流程。
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SS1000磨抛机
SS1000磨抛机适用于低到中等磨抛工作量的实验室，用8英寸（200毫米），双磨抛盘设计，是低或中等磨抛工作量的实验室的理想选择。磨抛底座可作为一个手动独立使用单元，或与磨抛头半组成成为一套半自动样品制备的磨抛机。强劲的0.5马力（373w）电动机同时驱动8英寸磨抛盘。添加磨抛头组件和自动加液器（可
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CSS200磨抛机
SS200磨抛机适用于低到中等磨抛工作量的实验室,是低或中等磨抛工作量的实验室简单操作的理想选择。该系统采用单盘设计（8英寸，10英寸，200毫米，或250毫米磨抛盘可选）。磨抛盘是由一个坚固的0.75马力（560W）的交流电机驱动。
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磨抛动力头 Qpol GO
-4个直径为40mm的样品试样夹具ø 120 mm单点压力：可调，5-45N速度（磨抛头）：150转/分钟驱动功率（磨抛头）60 W重量：18.5 kg
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精选研磨抛光机 Saphir 560 / Rubin 520
Saphir 560（Rubin 520）是新一代等径双盘磨抛机，它采用创新 的磨抛头，工作盘直径为200-300 mm。Rubin 520磨抛头配备了一个自动防护罩，为安全操作设定了新 标准。
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精选行星式球磨仪PM800C
PM800C可控温行星式球磨仪是上海一韦仪器科技推出的高端实验室研磨设备，集行星式研磨与精准温控于一体，控温范围-50℃至20℃，适用于热敏感材料的纳米级研磨。广泛应用于药物研发、机械化学、新能源材料等领域，支持多种研磨罐材质，处理量最大达4×600ml，是科研与质量控制的理想选择。
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精选大容量行星式球磨仪PM600
M600大容量行星式球磨仪专为大批量样品研磨设计，配备四个研磨平台，单罐容积最高达1000ml，可同时处理多个样品。提供真空与气氛研磨环境，适用于纳米材料制备、机械化学合成、新能源（如固态电解质、储氢材料）研发及土壤、岩石等硬性材料的精细前处理，是高效科研与规模化制备的理想设备。
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金相自动磨抛机
•带4个泵的加液系统金相自动磨抛机技术参数•底盘：Φ200 - 300 mm•底盘转速（可调）：50 - 600 rpm•电机功率：2.3 kW•磨抛头转速：15 - 40 rpm金相自动磨抛机标准配置金相自动磨抛机主机
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金相自动磨抛机
•带4个泵的加液系统金相自动磨抛机技术参数•底盘：Φ200 - 300 mm•底盘转速（可调）：50 - 600 rpm•电机功率：2.3 kW•磨抛头转速：15 - 40 rpm金相自动磨抛机标准配置金相自动磨抛机主机
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