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NMC-3000 MOCVD金属有机化学气相沉积系统
独立式系统ICP或者微波等离子源14”立方的电抛光不锈钢腔体8”或者12”的基片夹具700°C旋转基片夹具用于6”样品台,950°C用于4”样品台增加鼓泡器和MFC自动上下片集群配置可兼容
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磁控溅射系统NSC-4000 (M
基板支持加热(最高可达800°C)或冷却支持旋转GLAD斜角入射沉积腔体尺寸可定制1.5-5KW脉冲之流电源用于ITO/ZnO等类似材料 NANO-MASTER的溅射系统可构建成多腔体和多
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NDT-4000 热真空系统
· 电源要求:380V,3相交流电,35A/相· 主系统冷却水:20-30PSI,1.5gpm流速· 冷却单元冷却水:20-30PSI,5gpm流速
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NRE-4000 (M) 反应离子刻蚀
极限真空5x10-7Torr,20分钟内可以达到10-6Torr级别涡轮分子泵最多支持8个MFC菜单驱动,4级密码访问保护 该系统是基于PC控制的全自动系统.具有高度的可重复性。 铝质腔体
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NPE-4000 (ICPM) 等离子增强化学气相沉积系统
立式ICPECVD系统不锈钢或铝制腔体极限真空可达10-7TorrICP离子源高达12”(300mm)直径的样品台 该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子,具有分形气流分布的
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光学元件原子级涂覆系统
光学涂层溅射IBAD离子束辅助沉积离子束刻蚀清洗离子束辅助反应刻蚀红外涂层表面处理 光学涂覆系统提供最先进的技术,系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用,同时具备各自的自动上/下载片
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NRE-4000 (ICPM) 全自动ICP刻蚀系统
外观尺寸:紧凑型立柜式设计,不锈钢腔体,外观尺寸为44”(W) x 26”(L) x62”(H); NRE-4000(ICPM)ICP刻蚀系统是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统,系统
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NIE-3500 (AC) 全自动离子束清洗系统
离子束:高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径:4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮
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LSC-5000 (AC) 全自动兆声大基片清洗系统
更多的去除这些颗粒。此外,NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除,而无须腐蚀性的
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NPC-4000 (A) 全自动等离子清洗机去胶机
有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水
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