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NPE-4000 (A) 全自动PECVD等离子体化学气相沉积系统
。 立式系统自动上下载片,带预真空锁不锈钢或铝制腔体极限真空可达10-7TorrRF淋浴头,HCD或微波等离子源高达6”(150mm)直径的样品台RF射频偏压样品台水冷样品台可加热到的800
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NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统
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NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统
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NLD-4000 (A) ALD全自动原子层沉积系统
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NLD-4000 (M) 原子层沉积系统
,非常方便腔体的访问和清洁。该系统拥有一个载气舱包含多达7个50ml的加热汽缸,用于前驱体以及反应物,同时带有N2或者Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀。
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NLD-3000 ALD原子层沉积系统
腔体,带有加热腔壁和气动升降顶盖,非常方便腔体的访问和清洁。该系统拥有一个载气舱包含多达7个50ml的加热汽缸,用于前驱体以及反应物,同时带有N2或者Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀。
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NRE-4000 (A) 全自动反应离子刻蚀
能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属典型的硅刻蚀速率,400 ?/min高达12”的阳极氧化铝RF样品台极限真空5x10-7Torr,20分钟内可以达到10-6Torr级别最多
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NPC-4000(M) 等离子刻蚀机
带密码保护的多级访问控制基于LabView软件的PC计算机全自动控制机械泵的压力可达到10mTorr250 l/s的涡轮分子泵极限真空为5x10-7Torr完整的安全联锁
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NPC-4000(A)全自动等离子刻蚀机
计算机控制的气动阀带密码保护的多级访问控制基于LabView软件的PC计算机全自动控制机械泵的压力可达到10mTorr250 l/s的涡轮分子泵极限真空为5x10-7Torr完整的安全联锁
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NPC-3500(M)等离子刻蚀机
多级访问控制基于LabView软件的PC计算机全自动控制机械泵的压力可达到10mTorr250 l/s的涡轮分子泵极限真空为5x10-7Torr完整的安全联锁
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